聯系電話:
15268114110
1、引言
適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。
2、主要技術指標
電機功率:350W
電源:AC220V 50Hz
速度范圍:500rpm-10000rpm
程序運行:可儲存12組程序,每組程序包含6個運行階段
增減速率設置范圍:100rpm/s-2000rpm/s
時間范圍:0-60s
吸盤:?19mm、?60mm
本機可選配加熱功能:加溫范圍RT-150℃; 加熱蓋,水槽及吸盤采用耐高溫材質聚四氟;溫度單獨控制,與主機程序控制無關聯;
尺寸:450mm×280mm×340mm
重量:20kg
主要特點包括:
真空吸附方式固定樣件,操作簡便
使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置,以減少偏心而造成的震動或飛片
根據樣件規格可以配用不同的吸盤,且更換方便簡單
設有12組程序,每組包含6個運行階段
電機啟動快速穩定,可以保證涂層厚度的一致性和均勻性
真空度最大可以達到-0.08MPa
本機可選配加熱功能:加溫范圍RT-150℃
技術參數如下
電機功率:350W。
速度范圍:500rpm-10000rpm。
程序運行:可儲存12組程序,每組程序包含6個運行階段。
增減速率設置范圍:100rpm/s-2000rpm/s。
時間范圍:0-60s。
吸盤:?19mm、?60mm。
通過在真空或可控氣氛環境中高速旋轉基材,利用離心力將涂覆溶液均勻鋪展成薄膜。核心流程包括:
樣品固定:基材通過真空吸盤吸附(真空度達-0.08MPa),或卡盤夾持/粘接固定(真空環境下適用)
涂膜階段:
低速注膠階段:轉速500-2000rpm,確保溶液覆蓋基材表面
高速勻膠階段:轉速提升至1000-20000rpm(不同機型上限不同),離心力使溶液形成均勻薄膜
環境控制:可選真空(腔體真空度達1Torr)或惰性氣體(如Ar、N?)環境,防止材料氧化
程序控制:
支持多段程序(如12組程序×6階段或16段),每段獨立設置轉速(100-20000rpm)、加減速率(100-6000rpm/s)及時間(1-600s)
核心組件:
電機:直流無刷電機,低振動、高穩定性(轉速偏差±1%)
腔體材質:聚丙烯(耐強酸/堿)或聚四氟乙烯(耐高溫至200℃)
真空系統:無油真空泵(抽速≥70L/min),避免油污染
安全防護:
開蓋急停功能,運行中開蓋自動減速停機
真空檢測與定位工具,防止樣品偏心飛脫
半導體與電子:晶圓光刻膠涂覆、集成電路封裝
光學器件
材料科研:
強腐蝕性溶液(如酸性蝕刻液)的薄膜制備
易氧化材料(如鈣鈦礦)在惰性氣體或真空環境下的涂覆
工業檢測:瀝青混合料壓實度測試(馬歇爾試驗)
樣品兼容性:
吸盤尺寸(常見Φ19mm/Φ60mm/Φ153mm),支持定制微型或大尺寸吸盤。
環境需求:
真空型(如VTC-200PV)適用易氧化材料;非真空型(如VTC-100PA)適合常規溶液
特殊功能:
加熱型:VTC-100PA-II支持室溫至200℃控溫(精度±2℃),用于需預熱涂覆的材料
高轉速:VTC-100PAH可達20000rpm,滿足納米級薄膜均勻性要求
維護成本:
聚丙烯腔體耐腐蝕但需定期清潔;無油真空泵維護簡單
| 型號 | 最大轉速 | 真空環境 | 加熱功能 | 適用場景 |
|----------------|-------------|-------------|------------|--------------------------|
| VTC-100PA | 10,000rpm | 惰性氣體 | ? | 常規酸/堿溶液
| VTC-100PAH | 20,000rpm | 惰性氣體 | ? | 高精度納米薄膜
| VTC-100PA-II| 10,000rpm | 惰性氣體 | ??(至200℃)| 高溫固化材料
| VTC-200PV | 6,000rpm | ??(1Torr) | ? | 易氧化材料(如金屬薄膜)
上一篇:VTC-50A旋轉涂膜機
下一篇:HV-5TPTA小負荷維氏硬度計
技術支持:化工儀器網 管理登陸 sitemap.xml