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VTC-200P真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。
2、主要技術指標
電源:AC220V 50Hz
功率:350W
真空度:MAX -0.08MPa
轉速:500rpm-6000rpm
時間:1s-60s
尺寸:?250mm×290mm
重量:25kg
我公司專業(yè)生產(chǎn)銷售:洛式硬度計,維式硬度計,布氏硬度計,顯微維氏硬度計,便攜式硬度計,磁力式洛式硬度計,里氏硬度計,超聲波硬度計,金相切割機,全自動金相試樣切割機,金相磨拋機,金相預磨機,金相拋光機,全自動金相試樣磨拋機,手動金相試樣鑲嵌機,全自動金相鑲嵌機。金相拋光劑,金相拋光粉,金相砂紙,金相拋光布,金相切割片,冷鑲嵌樹脂,金相鑲嵌粉,導電鑲嵌粉,透明鑲嵌粉,倒置金相顯微鏡,正置金相顯微鏡,進口金相顯微鏡,體視顯微鏡,視頻顯微鏡,生物顯微鏡,熒光顯微鏡,手動影像測量儀,全自動影像測量儀,一鍵閃測儀,測量投影儀。粗糙度儀,輪廓儀,圓柱度儀
VTC-200P真空旋轉涂膜機
VTC-200P真空旋真空旋轉涂膜機轉涂膜機腔體不可抽真空,工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上,該設備可儲存12組程序,每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數(shù)不同,使設備緩慢提升速度限速度,有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜,且不會過多浪費,節(jié)約材料。腔室的上蓋可以對樣品進行加熱(可選功能),有利于粘稠度大的薄膜材料的涂覆過程的進行。VTC-200P真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優(yōu)點,主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程
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